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材料科学姑苏实验室感应耦合等离子体刻蚀系统招标公告
2021-04-20
序号产品名称数量简要技术规格备注品目1感应耦合等离子体刻蚀设备3套高密度等离子刻蚀机稳定可靠、工艺性能卓越、兼容性优良,主要用于200mm基片半导体制造工艺中的硅刻蚀、介质刻蚀、金属以及III-V族材料等刻蚀工艺。交货期合同生效后4个月内品目2ICP刻蚀腔1套感应耦合等离子体刻蚀机具有稳定可靠的工艺性能、宽阔的工艺窗
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